نقاوة عالية 99.5٪ تيتان هدف الاخرق لنظام طلاء بي في دي

هدف رش التيتانيوم 99.5٪ ، 99.95٪ D100x40mm ، D65x6.35mm

النقاء هو مؤشر الأداء الرئيسي للمادة المستهدفة ، لأن نقاء المادة المستهدفة له تأثير كبير على أداء الفيلم.

متطلبات الأداء الرئيسية للمادة المستهدفة:

النقاء هو مؤشر الأداء الرئيسي للمادة المستهدفة ، لأن نقاء المادة المستهدفة له تأثير كبير على أداء الفيلم.ومع ذلك ، في التطبيق العملي ، فإن متطلبات نقاء الهدف ليست هي نفسها.على سبيل المثال ، مع التطور السريع لصناعة الإلكترونيات الدقيقة ، تم تطوير حجم رقاقة السيليكون من 6 "، 8" إلى 12 "، بينما تم تقليل عرض الأسلاك من 0.5 ميكرومتر إلى 0.25 ميكرومتر ، 0.18 ميكرومتر أو حتى 0.13 ميكرومتر. سابقًا ، يمكن أن يفي 99.995٪ من درجة النقاء المستهدفة بمتطلبات العملية لـ 0.35um IC ، بينما يتطلب تحضير خط 0.18um 99.999٪ أو حتى 99.9999٪ من النقاوة المستهدفة.

الشوائب في المادة الصلبة المستهدفة والأكسجين وبخار الماء في المسام هي مصادر التلوث الرئيسية.المواد المستهدفة المختلفة لها متطلبات مختلفة لمحتوى الشوائب المختلفة.على سبيل المثال ، أهداف الألومنيوم وسبائك الألومنيوم النقية لصناعة أشباه الموصلات لها متطلبات مختلفة لمحتوى الفلزات القلوية ومحتوى العناصر المشعة.

من أجل تقليل المسامية في المادة الصلبة المستهدفة وتحسين خصائص الأغشية المرشوشة ، عادة ما يكون الهدف مطلوبًا أن يكون ذو كثافة عالية.لا تؤثر كثافة الهدف على معدل الرش فحسب ، بل تؤثر أيضًا على الخصائص الكهربائية والبصرية للفيلم.كلما زادت كثافة الهدف ، كان أداء الفيلم أفضل.بالإضافة إلى ذلك ، فإن زيادة كثافة وقوة الهدف يمكن أن يجعل الهدف يتحمل بشكل أفضل الإجهاد الحراري في عملية الرش.الكثافة هي أيضًا مؤشر الأداء الرئيسي للهدف.

بشكل عام ، تكون المادة المستهدفة عبارة عن هيكل متعدد البلورات ، ويمكن أن يتراوح حجم الحبوب من ميكرومتر إلى مليمتر.بالنسبة لنفس النوع من الهدف ، يكون معدل الرش للهدف بحجم حبة صغير أسرع من الهدف ذي الحجم الكبير للحبيبات ، بينما يكون توزيع سمك الغشاء المودع بواسطة الهدف مع اختلاف صغير في حجم الحبيبات (توزيع موحد) أكثر اتساقًا.